Ташкент
Tashkent
Ташкент
Tashkent
Ташкент
Tashkent
Описан процесс создания макропористой кремниевой подложки, на которую нанесен слой диоксида титана методом атомно-слоевого осаждения. Для формирования макропористой структуры подложки применен метод электрохимического травления. Осаждение TiO2 проведено с использованием установки SI PEALD. Морфология, структура и оптические свойства осажденной пленки TiO2 оценены с использованием сканирующей электронной микроскопии с функцией энергодисперсионной рентгеновской спектроскопии, спектральной эллипсометрии в диапазоне 240—1000 нм и спектроскопии комбинационного рассеяния (КР). В КР-спектрах выявлены пики 144, 194, 397, 639 см–1, характерные для одной из модификаций TiO2 — анатаза. На основе рассчитанных эллипсометрических параметров определены коэффициент поглощения и ширина оптической запрещенной зоны осажденной пленки.
The process of creating a macroporous silicon substrate on which a layer of titanium dioxide is deposited using the atomic layer deposition method is described. To form a macroporous structure of the substrate, the method of electrochemical etching was used. TiO2 deposition was carried out using the SI PEALD setup. The morphology, structure and optical properties of the deposited TiO2 film were assessed using scanning electron microscopy coupled with energy dispersive X-ray spectroscopy, spectral ellipsometry in the range of 240–1000 nm and Raman spectroscopy. The Raman spectra revealed peaks at 144, 194, 397, 639 cm–1, which is the characteristic of one of the modifications of TiO2 – anatase. Based on the calculated ellipsometric parameters, the absorption coefficient and the optical band gap of the deposited film were determined.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.