Уфа
Ufa
Минск
Minsk
Саров
Sarov
Москва
Moscow
Москва
Moscow
Москва; Зеленоград
Moscow; Zelenograd
Высокочастотный (ВЧ) розжиг плазмы в коммерческих лампах (частота 3 МГц, ток 100 А) в течение 150—500 мкс после ее ВЧ (2 МГц) поджига обеспечивает селективное уменьшение интенсивности излучения в полосе 400—700 нм по сравнению с накачкой лампы разрядом емкости. Установлено, что коэффициент уменьшения интенсивности излучения возрастает с сокращением длительности ВЧ накачки. В спектре излучения лампы ДКРТВ-3000 выявлен рост интенсивности линий 587, 760 и 810 нм атома криптона, совпадающих с полосами поглощения ионов Nd3+ в спектре поглощения лазерного кристалла YAG:Nd3+. ВЧ розжиг рассматривается как альтернатива диодной накачке для повышения КПД лазера.
High-frequency (HF) plasma ignition in commercial lamps (frequency 3 MHz, current 100 A) for 150—500 μs after its HF (2 MHz) excitation provides a selective decrease in the radiation intensity in the 400—700 nm band compared to the lamp pumping by a capacitor discharge. It was found that the decrease coefficient of radiation intensity increases with a shortening duration of the HF excitation. In addition, in the emission spectrum of the DKRTV-3000 lamp, an increase in the intensity of the krypton atom lines (587, 760, and 810 nm) was revealed. These lines match the absorption bands of Nd3+ ions in the spectrum of the Nd3+:YAG laser crystal. Therefore, HF ignition is considered as an alternative to diode pumping for increasing the laser efficiency.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.