zhpsЖурнал прикладной спектроскопииZhurnal Prikladnoii Spektroskopii0514-7506B. I. Stepanov Institute of Physics of the National Academy of Scienceszhps-1816Research ArticleОПТИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫOPTICAL MATERIALSФоточувствительный полимерный материал для объемно- и рельефно-фазовой голографической записи в широкой спектральной областиPhoto-Sensitive Polymer Material for Volume- and Relief-Phase Holographic Recording in a Wide Spectral RangeМогильныйВ. В.MahilnyU. V.

Минск

Minsk

mogilny@bsu.byСтасевичД. Е.StasevichD. E.

Минск

Minsk

ХрамцовЭ. А.KhramtsouE. A.

Минск

Minsk

ШкадаревичА. П.ShkadarevichA. P.

Минск

Minsk

shkad@lemt.byБелорусский государственный университетБеларусьBelarusian State UniversityBelarusУнитарное предприятие “НТЦ “ЛЭМТ” БелОМО”БеларусьUnitary Enterprise “STC “LEMT” BelOMO”Belarus202528032025922246254Copyright © Могильный В.В., Стасевич Д.Е., Храмцов Э.А., Шкадаревич А.П., 20252025Могильный В.В., Стасевич Д.Е., Храмцов Э.А., Шкадаревич А.П.Mahilny U.V., Stasevich D.E., Khramtsou E.A., Shkadarevich A.P.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://zhps.ejournal.by/jour/article/view/1816

Показано, что фазовый отклик нового полимера с боковыми антраценовыми группами создается их фотоокислением и фотодимеризацией. Обе фотореакции приводят к приблизительно одинаковой фоторефракции в объеме (Δn » –0.02 для λ = 633 нм) и образованию на поверхности слоя фоторельефа. Оценка глубины модуляции показателя преломления в структуре двумерных голографических решеток указывает на возможность достижения максимальной дифракционной эффективности, которая для трехмерных решеток ограничивается их несинусоидальностью. Показано, что полимер и его композиции с различными фотосенсибилизаторами в тонких (~1 мкм) слоях эффективно формируют поверхностные фоторельефы с пространственной частотой до 1000 мм–1 и амплитудой до 25 % от толщины слоя при использовании постэкспозиционной обратимой пластификации. Экспериментально установлено, что устойчивость поверхностных фоторельефов к действию температур более 90 °C может быть многократно увеличена фотосшиванием материала сформированной рельефной структуры.

It has been shown experimentally that the phase response of the new polymer with side anthracene groups is created by their photooxidation and photodimerization. Both photoreactions lead to approximately equal photorefraction in the volume of the material (Δn » –0.02 for λ = 633 nm) and formation of a photorelief on the layer surface. Estimation of the refractive index modulation depth in the structure of twodimensional holographic gratings indicates the possibility of achieving maximum diffraction efficiency, which for three-dimensional gratings is limited by their non-sinusoidality. It has been shown that the polymer and its compositions with various photosensitizers in thin (~ 1 μm) layers effectively form surface photoreliefs with a spatial frequency of up to 1000 mm–1 and an amplitude of up to 25% of the layer thickness when using post-exposure reversible plasticization. It has been experimentally established that the resistance of surface photoreliefs to the action of temperatures above 90°C can be increased manyfold by photocrosslinking the material of the formed relief structure.

фотодимеризациясенсибилизированное фотоокислениефазовая оптическая записьобъемно-фазовые и рельефно-фазовые голограммыphotodimerizationsensitized photooxidationphase optical recordingvolume-phase and relief-phase hologramsReferencesА. П. Попов, А. Ф. Кавтрев, А. В. Вениаминов, Г. И. Лашков. Оптическая голография с записью в трехмерных средах, под ред. Ю. Н. Денисюка, Ленинград, Наука (1986) 82—91А. П. Попов, А. Ф. Кавтрев, А. В. Вениаминов, Г. И. Лашков. Оптическая голография с записью в трехмерных средах, под ред. Ю. Н. Денисюка, Ленинград, Наука (1986) 82—91В. В. Могильный, Ю. В. Грицай. Опт. и спектр., 83, № 5 (1997) 832—836В. В. Могильный, Ю. В. Грицай. Опт. и спектр., 83, № 5 (1997) 832—836Г. И. Лашков. Успехи физ. наук, 148, № 3 (1986) 539—541Г. И. Лашков. Успехи физ. наук, 148, № 3 (1986) 539—541В. В. Могильный, Ю. В. Грицай. Письма в ЖТФ, 27, вып. 2 (2001) 42—47В. В. Могильный, Ю. В. Грицай. Письма в ЖТФ, 27, вып. 2 (2001) 42—47Ю. В. Грицай, В. В. Могильный. Опт. и спектр., 95, № 3 (2003) 520—525Ю. В. Грицай, В. В. Могильный. Опт. и спектр., 95, № 3 (2003) 520—525В. В. Могильный, Ю. В. Грицай, С. В. Ковалев. ЖТФ, 69, вып. 8 (1999) 79—83В. В. Могильный, Ю. В. Грицай, С. В. Ковалев. ЖТФ, 69, вып. 8 (1999) 79—83А. В. Вениаминов, В. В. Могильный. Опт. и спектр., 115, № 6 (2013) 143—167А. В. Вениаминов, В. В. Могильный. Опт. и спектр., 115, № 6 (2013) 143—167В. В. Могильный, А. И. Станкевич, Э. А. Храмцов, А. П. Шкадаревич. Журн. прикл. спектр., 88, № 1 (2021) 159—165U. V. Mahilny, A. I. Stankevich, E. A. Khramtsou, A. P. Shkadarevich. J. Appl. Spectr., 88 (2021) 146—152В. В. Могильный, А. И. Станкевич. Взаимодействие излучений с твердым телом: матер. 13 междунар. конф., Минск, БГУ (2019) 280—283В. В. Могильный, А. И. Станкевич. Взаимодействие излучений с твердым телом: матер. 13 междунар. конф., Минск, БГУ (2019) 280—283Н. М. Ганжерли, С. Н. Гуляев, И. А. Маурер, Д. Ф. Черных. Опт. журн., 82, № 3 (2015) 37—42Н. М. Ганжерли, С. Н. Гуляев, И. А. Маурер, Д. Ф. Черных. Опт. журн., 82, № 3 (2015) 37—42Н. М. Ганжерли, С. Н. Гуляев, И. А. Маурер. Опт. и спектр., 125, № 7 (2018) 62—70Н. М. Ганжерли, С. Н. Гуляев, И. А. Маурер. Опт. и спектр., 125, № 7 (2018) 62—70Н. М. Ганжерли, С. Н. Гуляев, И. А. Маурер, Д. Р. Хазвалиева. Письма в ЖТФ, 45, вып.12 (2019) 30—32Н. М. Ганжерли, С. Н. Гуляев, И. А. Маурер, Д. Р. Хазвалиева. Письма в ЖТФ, 45, вып.12 (2019) 30—32В. В. Могильный, А. И. Станкевич. Журн. прикл. спектр., 86, № 6 (2019) 868—873U. V. Mahilny, A. I. Stankevich. J. Appl. Spectr., 86 (2019) 986—990U. V. Mahilny, A. I. Stankevich. KnE Energy & Physics (2018) 7–13, doi: 10.18502/ken.v3i3.2008U. V. Mahilny, A. I. Stankevich. KnE Energy & Physics (2018) 7–13, doi: 10.18502/ken.v3i3.2008В. В. Могильный. Полимерные фоторегистрирующие материалы и их применение: курс лекций, Минск, БГУ (2003) 71В. В. Могильный. Полимерные фоторегистрирующие материалы и их применение: курс лекций, Минск, БГУ (2003) 71К. К. Шварц, В. И. Готлиб, Я. Ж. Кристапсон. Оптические регистрирующие среды, Рига, Зинатне (1976) 23К. К. Шварц, В. И. Готлиб, Я. Ж. Кристапсон. Оптические регистрирующие среды, Рига, Зинатне (1976) 23Р. Кольер, К. Беркхарт, Л. Лин. Оптическая голография, Москва, Мир (1973)Р. Кольер, К. Беркхарт, Л. Лин. Оптическая голография, Москва, Мир (1973)Д. Н. Мармыш, В. В. Могильный, Е. А. Толстик. Изв. РАН. Сер. физ., 70, № 12 (2006) 1796—1799Д. Н. Мармыш, В. В. Могильный, Е. А. Толстик. Изв. РАН. Сер. физ., 70, № 12 (2006) 1796—1799

The authors declare that there are no conflicts of interest present.