Екатеринбург
Ekaterinburg
Екатеринбург
Ekaterinburg
Екатеринбург
Ekaterinburg
Новосибиpск
Novosibirsk
Екатеринбург
Ekaterinburg
Методами одноволновой и спектральной эллипсометрии исследовано изменение толщины и оптических постоянных пленок оксида бора, осажденных на подложки из сапфирового стекла, ситалла и поликристаллического массивного алюминия, непосредственно в процессе их нагрева на воздухе в интервале температур 24—700 °С. Продемонстрирована высокая гигроскопичность пленок, которая уменьшается при их предварительном отжиге. Показано, что в исследуемом температурном диапазоне происходит непрерывное уменьшение толщины пленки. В диапазоне температур до 300 °С оно обусловлено процессами дегидратации. При более высоких температурах уменьшение толщины пленки объясняется медленным испарением образующейся в пленке борной кислоты. Показано, что осаждение пленки оксида бора на поверхность алюминия не влияет на скорость его окисления.
The thickness and optical constants changes of boron oxide films deposited on substrates of sapphire glass, sitall, and polycrystalline massive aluminum were studied directly during heating on air in the temperature range of 24–700°C using single-wave and spectral ellipsometry methods. The high hygroscopicity of these films was demonstrated, which decreases upon their preliminary annealing. It was shown that a continuous decrease of the film thickness occurs in the studied temperature range. In the temperature range up to 300°C, it is due to dehydration processes. At higher temperatures, the decrease in the film thickness is explained by the slow evaporation of boric acid formed in the film. It was shown that the deposition of a boron oxide film on the aluminum surface does not affect the rate of its oxidation.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.