zhpsЖурнал прикладной спектроскопииZhurnal Prikladnoii Spektroskopii0514-7506B. I. Stepanov Institute of Physics of the National Academy of Scienceszhps-2030Research ArticleПРИБОРЫ И МЕТОДЫ СПЕКТРОСКОПИИDEVICES AND METHODS OF SPECTROSCOPYМощный эксиплексный ХеСl-лазер с модульной системой возбужденияPowerful Exciplex XeCl Laser with Modular Excitation SystemАнуфрикС. С.AnufrickS. S.

Гродно

Grodno

ЗноскоК. Ф.ZnoskoK. F.

Гродно

Grodno

znosko@rambler.ruВолоденковА. П.VolodenkovA. P.

Гродно

Grodno

Гродненский государственный университет им. Янки КупалыYanka Kupala State University of Grodno202526112025926806813Copyright © Ануфрик С.С., Зноско К.Ф., Володенков А.П., 20252025Ануфрик С.С., Зноско К.Ф., Володенков А.П.Anufrick S.S., Znosko K.F., Volodenkov A.P.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://zhps.ejournal.by/jour/article/view/2030

Изучены характеристики разработанного электроразрядного эксиплексного ХеСl-лазера, отличающегося модульным выполнением системы накачки и использованием двухполярного зарядного напряжения. Система накачки состоит из трех пар модулей, подключенных к общей нагрузке — лазерному межэлектродному разрядному промежутку. Показано, что модульное выполнение системы возбуждения поперечного разряда позволяет снизить рабочее напряжение до 36 кВ при разрядном промежутке 7 см, сократить длительность импульса разрядного тока, повысить мощность накачки активной среды и энерговклад в нее. Исследованы генерационные характеристики лазера в зависимости от состава активной среды и условий ее возбуждения. На рабочей смеси состава НСl:Хе:Ne 1:15:3000, находящейся под давлением 4 атм, при зарядном напряжении 36 кВ достигнута выходная энергия лазера ~3 Дж. Длительность импульса генерации лазера ~120 нс на полувысоте.

The article presents the results of studying the characteristics of the developed electric-discharge exciplex XeCl laser, which features a modular pumping system and the use of a bipolar charging voltage. The pumping system consists of three pairs of modules connected to a common load, i.e., the laser interelectrode discharge gap. It is shown that the modular transverse discharge excitation system allowed us to reduce the operating voltage to 36 kV with a discharge gap of 7 cm, shorten the discharge current pulse duration, and increase the pumping power of the active medium and the energy input into it. The article presents the results of studying the laser generation characteristics depending on the composition of the active medium and the conditions of its excitation. Using a working mixture of the composition HCl:Xe:Ne – 1:15:3000, under the pressure of 4 atm, at the charging voltage of 36 kV, the laser output energy of ~3 J was achieved. The laser generation pulse duration was ~120 ns at half-height.

эксиплесный лазерэлектроразрядный ХеСl-лазеримпульсный разрядразрядные электродыобострительная емкостьпредыонизация активной средыexciplex laserelectric discharge XeCl laserpulsed dischargedischarge electrodespeaking capacitypreionization of the active mediumReferencesА. С. Борейшо, В. А. Борейшо, И. М. Евдокимов, С. В. Ивакин. Лазеры: применения и приложения, Санкт-Петербург, Лань (2021)А. С. Борейшо, В. А. Борейшо, И. М. Евдокимов, С. В. Ивакин. Лазеры: применения и приложения, Санкт-Петербург, Лань (2021)А. И. Федоров. Импульсные газовые УФ-лазеры, возбуждаемые самостоятельным разрядом с УФ-предыонизацией: монография, Томск, ГАСУ (2023)А. И. Федоров. Импульсные газовые УФ-лазеры, возбуждаемые самостоятельным разрядом с УФ-предыонизацией: монография, Томск, ГАСУ (2023)Excimer Laser Technology, Eds. D. Basting, G. Marowsky, Springer Berlin Heidelberg (2010), ISBN: 9783642057496Excimer Laser Technology, Eds. D. Basting, G. Marowsky, Springer Berlin Heidelberg (2010), ISBN: 9783642057496Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Газовые и плазменные лазеры, под ред. В. Е. Фортова, С. И. Яковленко, Серия Б. Т.ХI-4 (2005)Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Газовые и плазменные лазеры, под ред. В. Е. Фортова, С. И. Яковленко, Серия Б. Т.ХI-4 (2005)S. Bollanti, P. Di Lazzaro, F. Flora, G. Giordano, T. Hermsen, T. Letardi, C. E. Zheng. Appl. Phys. B, 50, N 5 (1990) 415—423S. Bollanti, P. Di Lazzaro, F. Flora, G. Giordano, T. Hermsen, T. Letardi, C. E. Zheng. Appl. Phys. B, 50, N 5 (1990) 415—423И. Н. Коновалов, В. Ф. Лосев, Ю. Н. Панченко, Н. Г. Иванов, М. Ю. Сухов. Квант. электрон., 35, № 3 (2005) 237—240И. Н. Коновалов, В. Ф. Лосев, Ю. Н. Панченко, Н. Г. Иванов, М. Ю. Сухов. Квант. электрон., 35, № 3 (2005) 237—240A. N. Panchenko, V. F. Tarasenko. Progress Quantum Electron., 36, N 1 (2012) 143—193A. N. Panchenko, V. F. Tarasenko. Progress Quantum Electron., 36, N 1 (2012) 143—193Yu. N. Panchenko, V. F. Losev. Russ. Phys. J., 55, N 9 (2013) 1091—1097Yu. N. Panchenko, V. F. Losev. Russ. Phys. J., 55, N 9 (2013) 1091—1097Н. Г. Иванов, В. Ф. Лосев, Ю. Н. Панченко. Изв. вузов. Физика, 43, № 5 (2000) 64—68Н. Г. Иванов, В. Ф. Лосев, Ю. Н. Панченко. Изв. вузов. Физика, 43, № 5 (2000) 64—68Ю. Н. Панченко, Н. Г. Иванов, В. Ф. Лосев. Квант. электрон., 35, № 9 (2005) 618—620Ю. Н. Панченко, Н. Г. Иванов, В. Ф. Лосев. Квант. электрон., 35, № 9 (2005) 618—620В. Ф. Лосев, Ю. Н. Панченко. Квант. электрон., 31, № 4 (2001) 293—297В. Ф. Лосев, Ю. Н. Панченко. Квант. электрон., 31, № 4 (2001) 293—297А. М. Ражев, А. И. Щедрин, А. Г. Калюжная, А. В. Рябцев, А. А. Жупиков. Квант. электрон., 34, № 10 (2004) 901—906А. М. Ражев, А. И. Щедрин, А. Г. Калюжная, А. В. Рябцев, А. А. Жупиков. Квант. электрон., 34, № 10 (2004) 901—906С. С. Ануфрик, К. Ф. Зноско, А. Д. Курганский. Квант. электрон., 16, № 11 (1989) 2228—2231С. С. Ануфрик, К. Ф. Зноско, А. Д. Курганский. Квант. электрон., 16, № 11 (1989) 2228—2231E. X. Бакшт, A. H. Панченко, В. Ф. Тарасенко. Квант. электрон., 30, № 6 (2001) 506—508E. X. Бакшт, A. H. Панченко, В. Ф. Тарасенко. Квант. электрон., 30, № 6 (2001) 506—508М. В. Андреев, Ю. Н. Панченко. Изв. вузов. Физика, 57, № 11/3 (2014) 170—174М. В. Андреев, Ю. Н. Панченко. Изв. вузов. Физика, 57, № 11/3 (2014) 170—174S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. Proc. Int. Conf. Advanced Optoelectronics and Lasers, CAOL 2003, Alushta, Crimea, Ukraine, 1 (2003) 135—137S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. Proc. Int. Conf. Advanced Optoelectronics and Lasers, CAOL 2003, Alushta, Crimea, Ukraine, 1 (2003) 135—137С. С. Ануфрик, А. П. Володенков, К. Ф. Зноско. Журн. прикл. спектр., 66, № 5 (1999) 702—707S. S. Anufrik, A. P. Volodenkov, K. F. Znosko. J. Appl. Spectr., 66, N 5 (1999) 808—814S. S. Anufrik, A. P. Volodenkov, K. F. Znosko. J. Opt. Technol., 67, N 11 (2000) 961—967]S. S. Anufrik, A. P. Volodenkov, K. F. Znosko. J. Opt. Technol., 67, N 11 (2000) 961—967]А. М. Ражев, А. И. Щедрин, А. Г. Калюжная, А. А. Жупиков. Квант. электрон., 35, № 9 (2005) 799—804А. М. Ражев, А. И. Щедрин, А. Г. Калюжная, А. А. Жупиков. Квант. электрон., 35, № 9 (2005) 799—804B. M. Борисов, А. В. Демьянов, Ю. Б. Кирюхин. Квант. электрон., 24, № 1 (1997) 25—30B. M. Борисов, А. В. Демьянов, Ю. Б. Кирюхин. Квант. электрон., 24, № 1 (1997) 25—30И. Н. Коновалов, Н. Н. Коваль, А. И. Суслов. Квант. электрон., 32, № 8 (2002) 663—668И. Н. Коновалов, Н. Н. Коваль, А. И. Суслов. Квант. электрон., 32, № 8 (2002) 663—668S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. Proc. Int. Conf. Advanced Optoelectronics and Lasers, CAOL 2003, Alushta, Crimea, Ukraine, 1 (2003) 46—148S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. Proc. Int. Conf. Advanced Optoelectronics and Lasers, CAOL 2003, Alushta, Crimea, Ukraine, 1 (2003) 46—148А. М. Ражев, Е. С. Каргапольцев, Д. С. Чуркин. Квант. электрон., 46, № 3 (2016) 205—209А. М. Ражев, Е. С. Каргапольцев, Д. С. Чуркин. Квант. электрон., 46, № 3 (2016) 205—209Ю. И. Бычков, А. Н. Панченко, В. Ф. Тарасенко, А. Е. Тельминов, С. А. Ямпольская, А. Г. Ястремский. Квант. электрон., 37, № 4 (2007) 319—324Ю. И. Бычков, А. Н. Панченко, В. Ф. Тарасенко, А. Е. Тельминов, С. А. Ямпольская, А. Г. Ястремский. Квант. электрон., 37, № 4 (2007) 319—324S. S. Anufrik, A. P. Volodenkov, V. F. Losev, K. F. Znosko. Russ. Phys. J., 54, N 11 (2012) 1264—1271S. S. Anufrik, A. P. Volodenkov, V. F. Losev, K. F. Znosko. Russ. Phys. J., 54, N 11 (2012) 1264—1271S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. High Temp. Mater. Process, 18, N 3 (2014) 181—196S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. High Temp. Mater. Process, 18, N 3 (2014) 181—196S. S. Anufrik, A. P. Volodenkov, K. F. Znosko. Proc. 8th Int. Conf. Laser and Fiber-Optical Networks Modeling, LFNM 2006. Kharkiv, Ukraine (2006) 80—83, 4018200S. S. Anufrik, A. P. Volodenkov, K. F. Znosko. Proc. 8th Int. Conf. Laser and Fiber-Optical Networks Modeling, LFNM 2006. Kharkiv, Ukraine (2006) 80—83, 4018200B. B. Дацюк, И. А. Измайлов, B. A. Кочелап. УФН, 168, № 4 (1998) 439—464B. B. Дацюк, И. А. Измайлов, B. A. Кочелап. УФН, 168, № 4 (1998) 439—464Ю. И. Бычков, С. А. Ямпольская, А. Г. Ястремский. Квант. электрон., 40, № 1 (2010) 28—34Ю. И. Бычков, С. А. Ямпольская, А. Г. Ястремский. Квант. электрон., 40, № 1 (2010) 28—34S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. Proc. SPIE. The International Society for Optical Engineering, 6731 (2007) 673106S. Anufrik, A. Volodenkov, K. Znosko. Proc. SPIE. The International Society for Optical Engineering, 6731 (2007) 673106

The authors declare that there are no conflicts of interest present.