Львов
L’viv
Львов
L’viv
Львов
L’viv
Львов
L’viv
Львов
L’viv
Исследован длинноволновый край полосы фундаментального поглощения тонких пленок Y2O3, полученных методом высокочастотного ионно-плазменного распыления. Показано, что при нанесении пленок в атмосфере аргона, кислорода или смеси данных газов край межзонного поглощения хорошо аппроксимируется эмпирическим правилом Урбаха. Для анализа экспериментальных результатов рассмотрены дифрактограммы полученных пленок и использована модель сильнолегированного или дефектного полупроводника в квазиклассическом приближении. Использование данной модели позволяет определить радиус основного электронного состояния, радиус экранирования и среднеквадратичный потенциал в зависимости от атмосферы распыления.
The long-wavelength edge of the fundamental absorption band of thin Y2O3 films obtained by radiofrequency ion-plasma sputtering is investigated. The edge of interband absorption after annealing of the films in an atmosphere of argon, oxygen, or a mixture of these gases is shown to be approximated well by the Urbach empirical rule. Diffractograms of the obtained films were studied and a model of a heavily doped or defective semiconductor in the quasi-classical approximation was used to analyze the experimental results. This model allows determining the radius of the basic electronic state, the screening radius, and the rootmean-square potential depending on the sputtering atmosphere.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.