СПЕКТРЫ КОМБИНАЦИОННОГО РАССЕЯНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК СПЛАВА КРЕМНИЙ/ГЕРМАНИЙ НА ОСНОВЕ ПОРИСТОГО КРЕМНИЯ
https://doi.org/10.47612/0514-7506-2022-89-5-614-620
Аннотация
Исследованы закономерности изменения состава тонких пленок сплава кремний/германий, сформированного на подложке монокристаллического кремния методом электрохимического осаждения германия в матрицу пористого кремния с последующим быстрым термическим отжигом (БТО) при температуре 750—950 °С. Анализ образцов методом спектроскопии комбинационного рассеяния света показал, что увеличение температуры БТО приводит к уменьшению концентрации германия в формируемом слое. Уменьшение продолжительности БТО при заданной температуре позволяет получить пленки с большей концентрацией германия и контролировать состав формируемых тонких пленок сплава кремний/германий путем изменения температуры и продолжительности БТО. Полученные результаты по управлению составом пленок сплава кремний-германий могут быть использованы при создании устройств функциональной электроники, термоэлектрических преобразователей энергии и оптоэлектронных приборов.
Ключевые слова
Об авторах
Е. Б. ЧубенкоБеларусь
Минск
Н. Л. Гревцов
Беларусь
Минск
В. П. Бондаренко
Беларусь
Минск
И. М. Гаврилин
Россия
Москва
А. В. Павликов
Россия
Москва
А. А. Дронов
Россия
Москва
Л. С. Волкова
Россия
Москва
С. А. Гаврилов
Россия
Москва
Список литературы
1. Y. Shiraki, N. Usami. Silicon–Germanium (SiGe) Nanostructures: Production, Properties and Applications in Electronics, Cambridge, Woodhead Publishing (2011) 3—25
2. L. Vegard. Z. Physik, 5 (1920) 17—26
3. J. P. Dismukes, L. Ekstrom, R. J. Pfaff. J. Phys. Chem., 68 (1964) 3021—3027
4. N. M. Ravindra, B. Jariwala, A. Bañobre, A. Maske. Thermoelectrics: Fundamentals, Materials Selection, Properties, and Performance, Cham, Springer (2019) 49—67
5. V. I. Talanin. New Research on Silicon — Structure, Properties, Technology, London, IntechOpen (2017) 84—101
6. D. Benedikovic, L. Virot, G. Aubin, J.-M. Hartmann, F. Amar, X. Le Roux, C. Alonso-Ramos, E. Cassan, D. Marris-Morini, J.-M. Fédéli, F. Boeuf, B. Szelag, L. Vivien. Nanophotonics, 10 (2021) 1059—1079
7. X. Zhang, L.-D. Zhao. J. Materiomics, 1 (2015) 92—105
8. I. M. Gavrilin, N. L. Grevtsov, A. V. Pavlikov, A. A. Dronov, E. B. Chubenko, V. P. Bondarenko, S. A. Gavrilov. Mater. Lett., 313 (2022) 131802
9. E. Fahrenkrug, J. Biehl, S. Maldonado. Chem. Mater., 27 (2015) 3389—3396
10. I. M. Gavrilin, D. G. Gromov, A. A. Dronov, S. V. Dubkov, R. L. Volkov, A. Yu. Trifonov, N. I. Borgardt, S. A. Gavrilov. Semicond., 51 (2017) 1067—1071
11. S. Acharya, L. Ma, S. Maldonado. ACS Appl. Nano Mater., 1 (2018) 5553—5561
12. Q. Cheek, E. Fahrenkrug, S. Hlynchuk, D. H. Alsem, N. J. Salmon, S. Maldonado. ACS Nano, 14 (2020) 2869—2879
13. R. Schwarz, F. Heinrich, E. Hollstein. Z. Anorg. Allgem. Chem., 229 (1936) 146
14. C. G. Fink, V. M. Dokras. J. Electrochem. Soc., 95 (1949) 80—97
15. N. Brinda-Konopik, G. Schade. Electrochim. Acta, 25 (1980) 697—701
16. R. K. Pandey, S. N. Sahu, S. Chandra. Handbook of Semiconductor Deposition, New York, Marcel Dekker Inc. (1996) 201—203
17. N. Chandrasekharan, S. C. Sevov. J. Electrochem. Soc., 157 (2010) C140—C145
18. L. K. van Vugt, A. F. van Driel, R. W. Tjerkstra, L. Bechger, W. L. Vos, D. Vanmaekelbergh, J. J. Kelly. Chem. Commun., 2002 (2002) 2054—2055
19. E. B. Chubenko, S. V. Redko, A. I. Sherstnyov, V. A. Petrovich, D. A. Kotov, V. P. Bondarenko. Semicond., 50 (2016) 372—376
20. K.-H. Li, C. Tsai, S. Shih, T. Hsu, D. L. Kwong, J. C. Campbell. J. Appl. Phys., 72 (1992) 3816—3817
21. I. P. Herman. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, San Diego, Academic Press (1996) 559—590
22. J. H. Parker, D. W. Feldman, M. Ashkin. Phys. Rev., 155 (1967) 712—714
23. A. Shklyaev, V. A. Volodin, M. Stoffel, H. Rinnert, M. Vergnat. J. Appl. Phys., 123 (2018) 015304
24. M. I. Alonso, K. Winer. Phys. Rev. B, 39 (1989) 10056—10062
25. P. M. Mooney, F. H. Dacol, J. C. Tsang, J. O. Chu. Appl. Phys. Lett., 62 (1993) 2069—2071
26. F. Pezzoli, E. Bonera, E. Grilli, M. Guzzi, S. Sanguinetti, D. Chrastina, G. Isella, H. von Känel, E. Wintersberger, J. Stangl, G. Bauer. Mater. Sci. Semicond. Proc., 11 (2008) 279—284
27. V. I. Korepanov, D. M. Sedlovets. Analyst., 143 (2018) 2674—2679
28. Y. Gao, P. Yin. Sci. Rep., 7 (2017) 43602
29. S. A. Mala, L. Tsybeskov, D. J. Lockwood, X. Wu, J.-M. Baribeau. J. Appl. Phys., 116 (2014) 014305
Рецензия
Для цитирования:
Чубенко Е.Б., Гревцов Н.Л., Бондаренко В.П., Гаврилин И.М., Павликов А.В., Дронов А.А., Волкова Л.С., Гаврилов С.А. СПЕКТРЫ КОМБИНАЦИОННОГО РАССЕЯНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК СПЛАВА КРЕМНИЙ/ГЕРМАНИЙ НА ОСНОВЕ ПОРИСТОГО КРЕМНИЯ. Журнал прикладной спектроскопии. 2022;89(5):614-620. https://doi.org/10.47612/0514-7506-2022-89-5-614-620
For citation:
Chubenko E.B., Grevtsov N.L., Bondarenko V.P., Gavrilin I.M., Pavlikov A.V., Dronov A.A., Volkova L.S., Gavrilov S.A. RAMAN SPECTRА OF SILICON/GERMANIUM ALLOY THIN FILMS BASED ON POROUS SILICON. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2022;89(5):614-620. (In Russ.) https://doi.org/10.47612/0514-7506-2022-89-5-614-620