|сгенерировать QR код
Открытый доступ
Только для подписчиков
Фоточувствительный полимерный материал для объемно- и рельефно-фазовой голографической записи в широкой спектральной области
Аннотация
Показано, что фазовый отклик нового полимера с боковыми антраценовыми группами создается их фотоокислением и фотодимеризацией. Обе фотореакции приводят к приблизительно одинаковой фоторефракции в объеме (Δn » –0.02 для λ = 633 нм) и образованию на поверхности слоя фоторельефа. Оценка глубины модуляции показателя преломления в структуре двумерных голографических решеток указывает на возможность достижения максимальной дифракционной эффективности, которая для трехмерных решеток ограничивается их несинусоидальностью. Показано, что полимер и его композиции с различными фотосенсибилизаторами в тонких (~1 мкм) слоях эффективно формируют поверхностные фоторельефы с пространственной частотой до 1000 мм–1 и амплитудой до 25 % от толщины слоя при использовании постэкспозиционной обратимой пластификации. Экспериментально установлено, что устойчивость поверхностных фоторельефов к действию температур более 90 °C может быть многократно увеличена фотосшиванием материала сформированной рельефной структуры.
Для цитирования:
Могильный В.В., Стасевич Д.Е., Храмцов Э.А., Шкадаревич А.П. Фоточувствительный полимерный материал для объемно- и рельефно-фазовой голографической записи в широкой спектральной области. Журнал прикладной спектроскопии. 2025;92(2):246-254.
For citation:
Mahilny U.V., Stasevich D.E., Khramtsou E.A., Shkadarevich A.P. Photo-Sensitive Polymer Material for Volume- and Relief-Phase Holographic Recording in a Wide Spectral Range. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2025;92(2):246-254. (In Russ.)
Просмотров: 16
Послать статью по эл. почте 