ТРАНСФОРМАЦИЯ СТРУКТУРНЫХ ДЕФЕКТОВ И СОСТОЯНИЯ ВОДОРОДА ПРИ ТЕРМООБРАБОТКЕ ГИДРОГЕНИЗИРОВАННОГО КРЕМНИЯ
Аннотация
Исследованы трансформации структурных дефектов, состояния водорода и электрофизических свойств кремния, обработанного в водородной плазме. Установлено, что после обработки в плазме (150 оС) в спектре комбинационного рассеяния наблюдаются полосы при 2095 и 2129 см-1, связанные с рассеянием на колебаниях связей Si-H. Последующая термообработка (275 оС) приводит к появлению полосы колебаний молекулярного водорода в газообразном состоянии с частотой 4153 см-1. Из сопоставления данных комбинационного рассеяния света и сканирующей зондовой микроскопии следует, что в результате гидрогенизации формируются структурные дефекты (плателеты) со средним размером 43 нм и поверхностной плотностью 6.5 × 109 см-2, обусловленные преципитацией водорода с образованием связей Si-H. После термообработки образуются включения со средним размером 115 нм и поверхностной плотностью 1.7 × 109 см-2, заполненные молекулярным водородом. Показано, что концентрация свободных носителей заряда остается неизменной после обработки в плазме и последующей термообработки.
Для цитирования:
Покотило Ю.М., Петух А.Н., Смирнова О.Ю., Стельмах Г.Ф., Маркевич В.П., Королик О.В., Свито И.А., Saad A.M. ТРАНСФОРМАЦИЯ СТРУКТУРНЫХ ДЕФЕКТОВ И СОСТОЯНИЯ ВОДОРОДА ПРИ ТЕРМООБРАБОТКЕ ГИДРОГЕНИЗИРОВАННОГО КРЕМНИЯ. Журнал прикладной спектроскопии. 2019;86(5):735-738.
For citation:
Pokotilo Yu.M., Petuh A.M., Smirnova O.Yu., Stelmakh G.F., Markevich V.P., Korolik O.V., Svito I.A., Saad A.M. TRANSFORMATION OF THE STRUCTURAL DEFECTS AND THE HYDROGEN STATE UPON HEAT-TREATMENT OF HYDROGENATED SILICON. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2019;86(5):735-738. (In Russ.)
Просмотров: 315
Послать статью по эл. почте 