Эллипсометрический подход в изучении изменений показателя преломления и коэффициента экстинкции тонкой однослойной пленки меди при термическом отжиге
Аннотация
Исследованы оптические характеристики тонкой поглощающей однослойной пленки меди при различных температурах отжига. Спектроскопическая эллипсометрия применена в качестве эффективного инструмента для точной настройки оптических констант тонких пленок, особенно для достижения конкретных значений показателя преломления (n) и коэффициента экстинкции (k). Измерение и анализ термически осажденной на стеклянную подложку тонкой однослойной пленки меди проведены для спектроскопического эллипсометра.
При поддержке: The author is thankful to the spectroscopic ellipsometry instrument facility at M.G. University, Kerala, India for data collection and analysis
Список литературы
1. O. Stenzel, A. Macleod, Adv. Opt. Technol., 1, 463–481 (2012).
2. H. Liu, J. Peng, W. Liu, Y. Wang, J. Wu, G. Zhang, X. Wang, Y. Yan, NPG Asia Mater., 10, 309–317 (2018).
3. N. A. Tran, H. N. Tran, M. C. Dang, E. Fribourg-Blanc, Adv. Nat. Sci. Nanosci. Nanotechnol., 1 (2010).
4. C. Ramade, S. Silvestre, F. Pascal-Delannoy, B. Sorli, Int. J. Radio Freq. Identif. Technol. Appl., 4, 49–66 (2012).
5. V. Ramya, K. Neyvasagam, R. Chandramohan, S. Valanarasu, A. M. F. Benial, J. Mater. Sci. Mater. Electron., 26, 8489–8496 (2015).
6. H. Derin, K. Kantarli, Appl. Phys. A Mater. Sci. Process, 75, 391–395 (2002).
7. J. Figueira, J. Loureiro, J. Marques, C. Bianchi, P. Duarte, M. Ruoho, I. Tittonen, I. Ferreira, ACS Appl. Mater. Interfaces, 9, 6520–6529 (2017).
8. E. G. Turitsyna, S. Webb, Electron. Lett., 41, 40–41 (2005).
9. S. M. Abd Al Kareem, W. I. Yaseen, IOP Conf. Ser. Mater. Sci. Eng., 757 (2020).
10. I. Mack, Development of innovative Coatings for sun Protection Glasses Based on the Theory of the Optimal Spectral Transmittance, PhD diss., University of Basel (2008).
11. B. Wang, P. W. Leu, Nano Energy, 13, 226–232 (2015).
12. V. F. Drobny, L. Pulfrey, Thin Solid Films, 61, 89–98 (1979).
13. J. N. Hilfiker, N. Singh, T. Tiwald, D. Convey, S. M. Smith, J. H. Baker, H. G. Tompkins, Thin Solid Films, 516, 7979–7989 (2008).
14. C. K. Carniglia, J. Opt. Soc. Am. A, 7, 848 (1990).
15. G. Papadimitropoulos, N. Vourdas, V. E. Vamvakas, D. Davazoglou, Thin Solid Films, 515, 2428–2432 (2006).
16. S. Schöche, N. Hong, M. Khorasaninejad, A. Ambrosio, E. Orabona, P. Maddalena, F. Capasso, Appl. Surf. Sci., 421, 778–782 (2017).
17. D. V. Likhachev, Thin Solid Films, 669, 174–180 (2019).
18. G. Papadimitropoulos, N. Vourdas, V. E. Vamvakas, D. Davazoglou, J. Phys. Conf. Ser., 10, 182–185 (2005).
19. Y. Z. Hu, R. Sharangpani, S.-P. Tay, J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film., 18, 2527 (2000).
20. J. B. Gong, W. Le Dong, R. C. Dai, Z. P. Wang, Z. M. Zhang, Z. J. Ding, Chin. Phys. B, 23 (2014).
21. F. A. Akgul, G. Akgul, N. Yildirim, H. E. Unalan, R. Turan, Mater. Chem. Phys., 147, 987–995 (2014).
22. R. Chauhan, A. K. Srivastava, M. Mishra, K. K. Srivastava, Integr. Ferroelectr., 119, 22–32 (2010).
23. N. Serin, T. Serin, Ş. Horzum, Y. Çelik, Semicond. Sci. Technol., 20, 398–401 (2005).
Рецензия
Для цитирования:
Somakumar А.K. Эллипсометрический подход в изучении изменений показателя преломления и коэффициента экстинкции тонкой однослойной пленки меди при термическом отжиге. Журнал прикладной спектроскопии. 2023;90(5):803.
For citation:
Somakumar A.K. Variation in Refractive Index and Extinction Coefficient of a Very Thin Copper Film by Thermal Annealing: an Ellipsometric Approach. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2023;90(5):803.
Просмотров:
382
JATS XML
Послать статью по эл. почте 