Эллипсометрический подход в изучении изменений показателя преломления и коэффициента экстинкции тонкой однослойной пленки меди при термическом отжиге

Исследованы оптические характеристики тонкой поглощающей однослойной пленки меди при различных температурах отжига. Спектроскопическая эллипсометрия применена в качестве эффективного инструмента для точной настройки оптических констант тонких пленок, особенно для достижения конкретных значений показателя преломления (n) и коэффициента экстинкции (k). Измерение и анализ термически осажденной на стеклянную подложку тонкой однослойной пленки меди проведены для спектроскопического эллипсометра.

1. O. Stenzel, A. Macleod, Adv. Opt. Technol., 1, 463–481 (2012).

2. H. Liu, J. Peng, W. Liu, Y. Wang, J. Wu, G. Zhang, X. Wang, Y. Yan, NPG Asia Mater., 10, 309–317 (2018).

3. N. A. Tran, H. N. Tran, M. C. Dang, E. Fribourg-Blanc, Adv. Nat. Sci. Nanosci. Nanotechnol., 1 (2010).

4. C. Ramade, S. Silvestre, F. Pascal-Delannoy, B. Sorli, Int. J. Radio Freq. Identif. Technol. Appl., 4, 49–66 (2012).

5. V. Ramya, K. Neyvasagam, R. Chandramohan, S. Valanarasu, A. M. F. Benial, J. Mater. Sci. Mater. Electron., 26, 8489–8496 (2015).

6. H. Derin, K. Kantarli, Appl. Phys. A Mater. Sci. Process, 75, 391–395 (2002).

7. J. Figueira, J. Loureiro, J. Marques, C. Bianchi, P. Duarte, M. Ruoho, I. Tittonen, I. Ferreira, ACS Appl. Mater. Interfaces, 9, 6520–6529 (2017).

8. E. G. Turitsyna, S. Webb, Electron. Lett., 41, 40–41 (2005).

9. S. M. Abd Al Kareem, W. I. Yaseen, IOP Conf. Ser. Mater. Sci. Eng., 757 (2020).

10. I. Mack, Development of innovative Coatings for sun Protection Glasses Based on the Theory of the Optimal Spectral Transmittance, PhD diss., University of Basel (2008).

11. B. Wang, P. W. Leu, Nano Energy, 13, 226–232 (2015).

12. V. F. Drobny, L. Pulfrey, Thin Solid Films, 61, 89–98 (1979).

13. J. N. Hilfiker, N. Singh, T. Tiwald, D. Convey, S. M. Smith, J. H. Baker, H. G. Tompkins, Thin Solid Films, 516, 7979–7989 (2008).

14. C. K. Carniglia, J. Opt. Soc. Am. A, 7, 848 (1990).

15. G. Papadimitropoulos, N. Vourdas, V. E. Vamvakas, D. Davazoglou, Thin Solid Films, 515, 2428–2432 (2006).

16. S. Schöche, N. Hong, M. Khorasaninejad, A. Ambrosio, E. Orabona, P. Maddalena, F. Capasso, Appl. Surf. Sci., 421, 778–782 (2017).

17. D. V. Likhachev, Thin Solid Films, 669, 174–180 (2019).

18. G. Papadimitropoulos, N. Vourdas, V. E. Vamvakas, D. Davazoglou, J. Phys. Conf. Ser., 10, 182–185 (2005).

19. Y. Z. Hu, R. Sharangpani, S.-P. Tay, J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film., 18, 2527 (2000).

20. J. B. Gong, W. Le Dong, R. C. Dai, Z. P. Wang, Z. M. Zhang, Z. J. Ding, Chin. Phys. B, 23 (2014).

21. F. A. Akgul, G. Akgul, N. Yildirim, H. E. Unalan, R. Turan, Mater. Chem. Phys., 147, 987–995 (2014).

22. R. Chauhan, A. K. Srivastava, M. Mishra, K. K. Srivastava, Integr. Ferroelectr., 119, 22–32 (2010).

23. N. Serin, T. Serin, Ş. Horzum, Y. Çelik, Semicond. Sci. Technol., 20, 398–401 (2005).