АНАЛИЗ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ, ИМПЛАНТИРОВАННОГО ИОНАМИ КИСЛОРОДА И ГЕЛИЯ, МЕТОДОМ СПЕКТРАЛЬНОЙ ЭЛЛИПСОМЕТРИИ

Представлены результаты исследований методом спектральной эллипсометрии поверхности кремния, имплантированного ионами кислорода в интервале доз 7.5 × 10¹⁴-3.7 × 10¹⁶ ион/см² и ионами гелия в интервале доз 6 × 10¹⁶-6 × 10¹⁷ ион/см² с энергией 40 кэВ при постоянной плотности тока в ионном пучке 2 мкА/см² и комнатной температуре облучаемых подложек. Получены зависимости толщины имплантированного слоя в облученных пластинах и степени его аморфизации от дозы ионной имплантации.

аморфный кремний, ионная имплантация, спектральная эллипсометрия, amorphous silicon, ion implantation, spectral ellipsometry

1. P. Petrik, O. Polga, M. Fried, T. Lohner, N. Q. Khanh, J. Gyulai. J. App. Phys., 93 (2003) 1987-1990

2. D. Shamiryan, D. V. Likhachev. Ion Implantation, Ed. M. Goorsky, InTech (2012) 89-104

3. V. V. Bazarov, V. F. Valeev, V. I. Nuzhdin, Y. N. Osin, G. G. Gumarov, A. L. Stepanov. Solid State Phenom., 233-234 (2015) 526-529

4. В. В. Базаров, В. И. Нуждин, В. Ф. Валеев, В. В. Воробьев, Ю. Н. Осин, А. Л. Степанов. Журн. прикл. спектр., 83, № 1 (2016) 55-59 [V. V. Bazarov, V. I. Nuzhdin, V. F. Valeev, V. V. Vorobev, Yu. N. Osin, A. L. Stepanov. J. Appl. Spectr., 83 (2016) 47-50]

5. V. V. Bazarov, V. I. Nuzhdin, V. F. Valeev, A. L. Stepanov. Vacuum, 148 (2018) 254-257

6. K. Tsunoda, S. Adachi, M. Takahashi. J. Appl. Phys., 91 (2002) 2936-2941

7. K. Kurihara, S. Hikino, S. Adachi. J. Appl. Phys., 96 (2004) 3247-3254

8. К. В. Карабешкин, П. А. Карасёв, А. И. Титов. ФТП, 47, № 2 (2013) 206-210 [K. V. Karabeshkin, P. A. Karaseov, A. I. Titov. Semiconductors, 47 (2013) 242-246]

9. К. В. Карабешкин, П. А. Карасёв, А. И. Титов. ФТП, 50, № 8 (2016) 1009-1015 [K. V. Karabeshkin, P. A. Karaseov, A. I. Titov. Semiconductors, 12 (2016) 989-995]

10. K. Kimura, Y. Oota, K. Nakajima, M. Suzuki, T. Aoki, J. Matsuo, A. Agarwal, B. Freer, A. Stevenson, M. Ameen. Nucl. Instr. Method Phys. Res. B, 211 (2003) 206-210

11. K. Kimura, S. Joumori, Y. Oota, K. Nakajima, M. Suzuki. Nucl. Instr. Method Phys. Res. B, 219-220 (2004) 351-357

12. A. V. Khomich, V. I. Kovalev, E. V. Zavedeev, R. A. Khmelnitskiy, A. A. Gippius. Vacuum, 78 (2005) 583-587

13. J. F. Ziegler, J. P. Biersack, M. D. Ziegler. SRIM. The Stopping and Range of Ions in Matter, SRIM Company (2008)