INTERFERENCE OF THE LUMINESCENT GLOW OF SILICON DIOXIDE DURING REACTIVE ION-PLASMA ETCHING
Abstract
The article presents the results of a study of luminescent glow of silicon dioxide during of its reactive ion-plasma etching, which has the highest intensity in the plasma of fluorinated gases. It is established that this luminescence is accompanied by the phenomenon of interference. Probable mechanisms of this phenomenon are considered. The possibility of using luminescence to control the etching of the SiO2 film, as well as layers of other materials lying on it, is shown.
About the Authors
A. V. AbramovRussian Federation
Voronezh, 394026
E. A. Pankratova
Russian Federation
Voronezh, 394026
I. S. Surovtsev
Russian Federation
Voronezh, 394026
References
1. Ф. Ф. Комаров, Л. А. Власукова, О. В. Мильчанин, М. А. Моховиков, И. Н. Пархоменко, E. Wendler, W. Wesch, А. В. Мудрый, Г. А. Исмайлова. Журн. прикл. спектр., 80, № 6 (2013) 864—870 [F. F. Komarov, L. A. Vlasukova, O. V. Milchanin, M. A. Makhavikou, I. N. Parkhomenko, E. Wendler, W. Wesch, A. Mudryi, G. A. Ismailova. J. Appl. Spectr., 80 (2013) 855—860]
2. A. П. Барабан, A. С. Бондаренко, В. П. Бондаренко, Ю. В. Петров, К. А. Тимофеев. Вестн. СПбГУ, сер. 4, вып. 2 (2011) 24—29
3. А. И. Бажин, Д. В. Гранкин, В. В. Стыров, В. И. Тютюнников. Изв. РАН. Сер. физ., 72, № 7 (2008) 967—971
4. Б. М. Аюпов, С. Ф. Девятова, В. Г. Ерков, Л. А. Семенова. Микроэлектроника, 37, № 3 (2008) 163—168
5. A. В. Aбрамов, E. A. Aбрамовa, Ю. И. Дикарев, И. С. Суровцев. Журн. прикл. спектр., 71, № 5 (2004) 655—659 [А. V. Аbramov, Е. А. Аbramova, Yu. I. Dikarev, I. S. Surovtsev. J. Appl. Spectr., 71 (2004) 715—720]
6. Д. И. Словецкий. Гетерогенные реакции в неравновесной галогенсодержащей плазме. Химия плазмы, вып. 15, под ред. Б. М. Смирнова, Москва, Энергоатомиздат (1989)
7. А. Ф. Горбачев, В. В. Стыров, В. М. Толмачев, Ю. И. Тюрин. ЖЭТФ, 91 (1986) 172—189 [A. F. Gorbachev, V. V. Styrov, V. M. Tolmachev, Yu. I. Tyurin. Zh. Eksp. Teor. Fiz., 91 (1986) 172—189]
8. D. L. Flamm. Pure Appl. Chem., 62, N 9 (1990) 1710—1720
Review
For citations:
Abramov A.V., Pankratova E.A., Surovtsev I.S. INTERFERENCE OF THE LUMINESCENT GLOW OF SILICON DIOXIDE DURING REACTIVE ION-PLASMA ETCHING. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2020;87(2):189-193. (In Russ.)