Preview

Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii

Advanced search

INTERFERENCE OF THE LUMINESCENT GLOW OF SILICON DIOXIDE DURING REACTIVE ION-PLASMA ETCHING

Abstract

The article presents the results of a study of luminescent glow of silicon dioxide during of its reactive ion-plasma etching, which has the highest intensity in the plasma of fluorinated gases. It is established that this luminescence is accompanied by the phenomenon of interference. Probable mechanisms of this phenomenon are considered. The possibility of using luminescence to control the etching of the SiO2 film, as well as layers of other materials lying on it, is shown.

About the Authors

A. V. Abramov
Voronezh State Technical University
Russian Federation
Voronezh, 394026


E. A. Pankratova
Voronezh State Technical University
Russian Federation
Voronezh, 394026


I. S. Surovtsev
Voronezh State Technical University
Russian Federation
Voronezh, 394026


References

1. Ф. Ф. Комаров, Л. А. Власукова, О. В. Мильчанин, М. А. Моховиков, И. Н. Пархоменко, E. Wendler, W. Wesch, А. В. Мудрый, Г. А. Исмайлова. Журн. прикл. спектр., 80, № 6 (2013) 864—870 [F. F. Komarov, L. A. Vlasukova, O. V. Milchanin, M. A. Makhavikou, I. N. Parkhomenko, E. Wendler, W. Wesch, A. Mudryi, G. A. Ismailova. J. Appl. Spectr., 80 (2013) 855—860]

2. A. П. Барабан, A. С. Бондаренко, В. П. Бондаренко, Ю. В. Петров, К. А. Тимофеев. Вестн. СПбГУ, сер. 4, вып. 2 (2011) 24—29

3. А. И. Бажин, Д. В. Гранкин, В. В. Стыров, В. И. Тютюнников. Изв. РАН. Сер. физ., 72, № 7 (2008) 967—971

4. Б. М. Аюпов, С. Ф. Девятова, В. Г. Ерков, Л. А. Семенова. Микроэлектроника, 37, № 3 (2008) 163—168

5. A. В. Aбрамов, E. A. Aбрамовa, Ю. И. Дикарев, И. С. Суровцев. Журн. прикл. спектр., 71, № 5 (2004) 655—659 [А. V. Аbramov, Е. А. Аbramova, Yu. I. Dikarev, I. S. Surovtsev. J. Appl. Spectr., 71 (2004) 715—720]

6. Д. И. Словецкий. Гетерогенные реакции в неравновесной галогенсодержащей плазме. Химия плазмы, вып. 15, под ред. Б. М. Смирнова, Москва, Энергоатомиздат (1989)

7. А. Ф. Горбачев, В. В. Стыров, В. М. Толмачев, Ю. И. Тюрин. ЖЭТФ, 91 (1986) 172—189 [A. F. Gorbachev, V. V. Styrov, V. M. Tolmachev, Yu. I. Tyurin. Zh. Eksp. Teor. Fiz., 91 (1986) 172—189]

8. D. L. Flamm. Pure Appl. Chem., 62, N 9 (1990) 1710—1720


Review

For citations:


Abramov A.V., Pankratova E.A., Surovtsev I.S. INTERFERENCE OF THE LUMINESCENT GLOW OF SILICON DIOXIDE DURING REACTIVE ION-PLASMA ETCHING. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2020;87(2):189-193. (In Russ.)

Views: 320


Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 0514-7506 (Print)