Preview

Журнал прикладной спектроскопии

Расширенный поиск
Доступ открыт Открытый доступ  Доступ закрыт Только для подписчиков

МЕХАНИЗМ АДГЕЗИОННОГО ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ ПЛЕНОК ДИАЗОХИНОННОВОЛАЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА С МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИМ КРЕМНИЕМ

Полный текст:

Аннотация

Методом ИК-Фурье-спектроскопии нарушенного полного внутреннего отражения исследованы радиационно-индуцированные процессы, протекающие при имплантации ионов бора и фосфора в пленки позитивного диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на кремнии. Установлено, что усиление адгезии резиста к монокристаллическому кремнию обусловлено образованием сложноэфирных сшивок между гидроксильными группами на поверхности оксидного слоя кремниевой пластины и карбоксильной группой 1-Н-инден-3-карбоновой кислоты.

Об авторах

С. Д. Бринкевич
Белорусский государственный университет
Беларусь
220030, Минск


Е. В. Гринюк
Белорусский государственный университет
Беларусь
220030, Минск


Д. И. Бринкевич
Белорусский государственный университет
Беларусь
220030, Минск


Р. Л. Свердлов
Белорусский государственный университет
Беларусь
220030, Минск


В. С. Просолович
Белорусский государственный университет
Беларусь
220030, Минск


А. Н. Петлицкий
ГЦ “Белмикроанализ” ОАО “ИНТЕГРАЛ” — управляющая компания холдинга “ИНТЕГРАЛ”
Беларусь
220600, Минск


Список литературы

1. A. Kondyurin, M. Bilek. Ion Beam Treatment of Polymers: Application Aspects from Medicine to Space, Elsevier (2015)

2. R. J. Composto, R. M. Walters, J. Genze. Mater. Sci Eng.: R: Rep., 38, N 3-4 (2002) 107—180

3. А. Н. Доронин, А. П. Тютнев, В. С. Саенко, Е. Д. Пожидаев. Перспект. материалы, № 2 (2001) 15—22

4. У. Моро. Микролитография. Принципы, методы, материалы, в 2-х ч., Москва, Мир (1990) [W. M. Moreau. Semiconductor Lithography. Principles, Practices and Мaterials, New York, London, Plenum Press (1988)]

5. Roy Debmalya, P. K. Basu, P. Raghunathan, S. V. Eswaran. Magn. Res. Chem., 41 (2003) 84—90

6. В. И. Лебедев, В. Е. Котомина, С. В. Зеленцов, Е. С. Леонов, К. В. Сидоренко. Вестн. Нижегород. ун-та. Химия, № 1 (2014) 178—182

7. J. S. Martins, D. G. A. L. Borges, R. C. Machado, A. G. Carpanez, R. M. Grazul, F. Zappa, W. S. Melo, M. L. M. Rocco, R. R. Pinho, C. R. A. Lima. Eur. Polym. J., 59 (2014) 1—7

8. Д. И. Бринкевич, А. А. Харченко, С. Д. Бринкевич, М. Г. Лукашевич, В. Б. Оджаев, В. Ф. Валеев, В. И. Нуждин, Р. И. Хайбуллин. Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед., № 8 (2017) 25—30

9. Д. И. Бринкевич, А. А. Харченко, В. С. Просолович, В. Б. Оджаев, С. Д. Бринкевич, Ю. Н. Янковский. Микроэлектроника, 48, № 3 (2019) 235—239

10. С. А. Вабищевич, С. Д. Бринкевич, Д. И. Бринкевич, В. С. Просолович. Химия высоких энергий, 54, № 1 (2020) 54—59

11. Ю. Беккер. Спектроскопия, Москва, Техносфера (2009) [J. Bocker. Spektroskopie. Vogel Industrie Medien GmbH & Co KG. Wurzburg (1997)]

12. Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, Н. В. Вабищевич, В. Б. Оджаев, В. С. Просолович. Микроэлектроника, 43, № 3 (2014) 193—199

13. R. D. Priestley, C. J. Ellison, L. J. Broadbelt, J. M. Torkelson. Science, 309, N 5733 (2005) 456—459

14. Б. Н. Тарасевич. ИК спектры основных классов органических соединений. Справочные материалы, Москва, МГУ (2012)

15. Э. Преч, Ф. Бюльманн, К. Аффольтер. Определение строения органических соединений. Таблицы спектральных данных, Москва, Мир, Бином (2006)

16. Lu Xiaolin, Mi Yongli. Macromolecules, 38, N 3 (2005) 839—843

17. В. С. Просолович, Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, Е. В. Гринюк, Ю. Н. Янковский. Матер. 13 междунар. конф. “Взаимодействие излучений с твердым телом”, Минск, 30.09—3.10.2019, Минск, Изд. центр БГУ (2019) 169—171

18. J. Hanisch, K. Hinrichs, J. Rappich. ACS Appl. Matter. Interfaces, 11, N 34 (2019) 31434—31440


Для цитирования:


Бринкевич С.Д., Гринюк Е.В., Бринкевич Д.И., Свердлов Р.Л., Просолович В.С., Петлицкий А.Н. МЕХАНИЗМ АДГЕЗИОННОГО ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ ПЛЕНОК ДИАЗОХИНОННОВОЛАЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА С МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИМ КРЕМНИЕМ. Журнал прикладной спектроскопии. 2020;87(4):589-594.

For citation:


Brinkevich S.D., Grinyuk E.V., Brinkevich D.I., Sverdlov R.L., Prosolovich V.S., Pyatlitski A.N. MECHANISM OF ADHESIVE INTERACTION OF DIAZOQUINONE-NOVOLAC PHOTORESIST FILMS WITH MONOCRYSTALLINE SILICON. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2020;87(4):589-594. (In Russ.)

Просмотров: 92


ISSN 0514-7506 (Print)