MECHANISM OF ADHESIVE INTERACTION OF DIAZOQUINONE-NOVOLAC PHOTORESIST FILMS WITH MONOCRYSTALLINE SILICON
Abstract
Radiation-induced processes taking place at boron and phosphorus ions implantation in the positive FN9120 diazoquinon-novoloc photoresist films on silicon were studied by the method of IR- Fourier spectroscopy of frustrated total internal reflection. It was established, that strengthening of photoresist adhesion to monocrystalline silicon is caused by the formation of ester linkages between hydroxyl groups on the surface of oxide layer of silicon wafer and carboxylic groups of 1H-inden-3-carbohylic acid.
About the Authors
S. D. Brinkevich
Belarusian State University
Belarus
Minsk, 220030
Belarus
Minsk, 220030
E. V. Grinyuk
Belarusian State University
Belarus
Minsk, 220030
Belarus
Minsk, 220030
D. I. Brinkevich
Belarusian State University
Belarus
Minsk, 220030
Belarus
Minsk, 220030
R. L. Sverdlov
Belarusian State University
Belarus
Minsk, 220030
Belarus
Minsk, 220030
V. S. Prosolovich
Belarusian State University
Belarus
Minsk, 220030
Belarus
Minsk, 220030
A. N. Pyatlitski
JSC “INTEGRAL” – Holding Management Company
Belarus
Minsk, 220600
Belarus
Minsk, 220600
References
1. A. Kondyurin, M. Bilek. Ion Beam Treatment of Polymers: Application Aspects from Medicine to Space, Elsevier (2015)
2. R. J. Composto, R. M. Walters, J. Genze. Mater. Sci Eng.: R: Rep., 38, N 3-4 (2002) 107—180
3. А. Н. Доронин, А. П. Тютнев, В. С. Саенко, Е. Д. Пожидаев. Перспект. материалы, № 2 (2001) 15—22
4. У. Моро. Микролитография. Принципы, методы, материалы, в 2-х ч., Москва, Мир (1990) [W. M. Moreau. Semiconductor Lithography. Principles, Practices and Мaterials, New York, London, Plenum Press (1988)]
5. Roy Debmalya, P. K. Basu, P. Raghunathan, S. V. Eswaran. Magn. Res. Chem., 41 (2003) 84—90
6. В. И. Лебедев, В. Е. Котомина, С. В. Зеленцов, Е. С. Леонов, К. В. Сидоренко. Вестн. Нижегород. ун-та. Химия, № 1 (2014) 178—182
7. J. S. Martins, D. G. A. L. Borges, R. C. Machado, A. G. Carpanez, R. M. Grazul, F. Zappa, W. S. Melo, M. L. M. Rocco, R. R. Pinho, C. R. A. Lima. Eur. Polym. J., 59 (2014) 1—7
8. Д. И. Бринкевич, А. А. Харченко, С. Д. Бринкевич, М. Г. Лукашевич, В. Б. Оджаев, В. Ф. Валеев, В. И. Нуждин, Р. И. Хайбуллин. Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед., № 8 (2017) 25—30
9. Д. И. Бринкевич, А. А. Харченко, В. С. Просолович, В. Б. Оджаев, С. Д. Бринкевич, Ю. Н. Янковский. Микроэлектроника, 48, № 3 (2019) 235—239
10. С. А. Вабищевич, С. Д. Бринкевич, Д. И. Бринкевич, В. С. Просолович. Химия высоких энергий, 54, № 1 (2020) 54—59
11. Ю. Беккер. Спектроскопия, Москва, Техносфера (2009) [J. Bocker. Spektroskopie. Vogel Industrie Medien GmbH & Co KG. Wurzburg (1997)]
12. Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, Н. В. Вабищевич, В. Б. Оджаев, В. С. Просолович. Микроэлектроника, 43, № 3 (2014) 193—199
13. R. D. Priestley, C. J. Ellison, L. J. Broadbelt, J. M. Torkelson. Science, 309, N 5733 (2005) 456—459
14. Б. Н. Тарасевич. ИК спектры основных классов органических соединений. Справочные материалы, Москва, МГУ (2012)
15. Э. Преч, Ф. Бюльманн, К. Аффольтер. Определение строения органических соединений. Таблицы спектральных данных, Москва, Мир, Бином (2006)
16. Lu Xiaolin, Mi Yongli. Macromolecules, 38, N 3 (2005) 839—843
17. В. С. Просолович, Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, Е. В. Гринюк, Ю. Н. Янковский. Матер. 13 междунар. конф. “Взаимодействие излучений с твердым телом”, Минск, 30.09—3.10.2019, Минск, Изд. центр БГУ (2019) 169—171
18. J. Hanisch, K. Hinrichs, J. Rappich. ACS Appl. Matter. Interfaces, 11, N 34 (2019) 31434—31440
Review
For citations:
Brinkevich S.D., Grinyuk E.V., Brinkevich D.I., Sverdlov R.L., Prosolovich V.S., Pyatlitski A.N. MECHANISM OF ADHESIVE INTERACTION OF DIAZOQUINONE-NOVOLAC PHOTORESIST FILMS WITH MONOCRYSTALLINE SILICON. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2020;87(4):589-594. (In Russ.)
Views: 314
Email this article 