Бактерицидные компоненты в гелиевой и воздушной плазменных струях диэлектрического барьерного разряда

Методами эмиссионной и абсорбционной спектроскопии исследован компонентный состав плазменных струй, генерируемых диэлектрическим барьерным разрядом в гелии и воздухе при атмосферном давлении. Концентрация основного бактерицидного компонента воздушной плазменной струи (озона) определялась с помощью ИК- и УФ-абсорбционной спектроскопии, что повышает достоверность измерений. При изучении воздействия плазменных струй на бактерии Staphylococcus aureus установлено, что воздушная струя обладает лучшим инактивационным эффектом по сравнению с гелиевой.

1. M. G. Kong, G. Kroesen, G. Morfill, T. Nosenko, T. Shimizu, J. van Dijk, J. L. Zimmermann. New J. Phys., 11 (2009) 115012

2. A. Fridman, G. Friedman. Plasma Medicine, Wiley, New Delhi (2013)

3. M. Laroussi. Cambridge: Cambridge University Press (2012)

4. K. D. Weltmann, R. Brandenburg, T. von Woedtke, J. Ehlbeck, R. Foest, M. Stieber, E. Kindel.

5. J. Phys. D: Appl. Phys., 41, N 19 (2008) 194008

6. R. Ono. J. Phys. D: Appl. Phys., 49 (2016) 34

7. I. Niedzwiedz, A. Wasko, J. Pawlat, M. Polak-Berecka. Polish J. Microbiol., 68, N 2 (2019) 153—164

8. G. B. Sretenovic, P. S. Iskrenovic, I. B. Krstic, V. V. Kovacevic, B. M. Obradovic, M. M. Kuraica. Plasma Sour. Sci. Technol., 27 (2018) 07LT01

9. A. Sobota, O. Guaitella, G. B. Sretenovic, I. B. Krstic, V. V. Kovacevic, A. Obrusnik, Y. N. Nguyen, L. Zajickova, B. M. Obradovic, M. M. Kuraica. Plasma Sour. Sci. Technol., 25 (2016) 065026

10. http://www.cfa.harvard.edu/HITRAN/

11. C. W. Allen. Astrophysical Quantities, The Athlone Press, London (1973)

12. L. T. Molina, M. J. Molina. J. Geophys. Res., 91 (1986) 14501—14508

13. M. Petersen, J. Viallon, P. Moussay, R. Wielgosz. J. Geophys. Res., 117 (2012) D05301

14. J. Viallon, S. Lee, P. Moussay, K. Tworek, M. Petersen, R. I. Wielgosz, Atm. Meas. Techn., 8 (2015) 1245—1257

15. N. V. Dudchik, S. I. Sychik, V. V. Shevlyakov. Theor. Appl. Ecol., 4 (2018) 5—12

16. J. Winter, R. Brandenburg, K.-D. Weltmann. Plasma Sour. Sci. Technol., 24 (2015) 064001

17. A. F. Al-rawaf, F. K. Fuliful, M. K. Khalaf, H. K. Oudah. J. Theor. Appl. Phys., 12 (2018) 45—51

18. K. Lotfy, S. M. Khalil, H. Abd El-Raheem. J. Theor. Appl. Phys., 14, N 1 (2020) 37—45

19. H. Xu, C. Chen, D. Liu, W. Wang, W. Xia, Z. Liu, L. Guo, M. G. Kong. Plasma Sci. Technol., 21 (2019)11

20. X. P. Lu, T. Ye, Y. G. Cao, Z. Y. Sun, Q. Xiong, Z. Y. Tang, Z. L. Xiong, J. Hu, Z. H. Jiang, Y. Pan. J. Appl. Phys., 104 (2008) 053309

21. G. Uchida, K. Takenaka, K. Kawabata, Y. Setsuhara. IEEE Transact. Plasma Sci., 43, N 3 (2015) 737—744

22. V. I. Arkhipenko, A. V. Kazak, A. A. Kirillov, L. V. Simonchik, V. V. Shkurko. High Temperature Mater. Proc., 22, N 4 (2018) 273—278

23. A. A. Kirillov, A. V. Paulava, Y. A. Safronau, L. V. Simonchik. Appl. Phys., 5 (2013) 52—55

24. A. V. Kazak, A. A. Kirillov, L. V. Simonchik, O. E. Nezhvinskaya, N. V. Dudchik. Plasma Med., 7, N 2 (2017) 109—115

25. U. Kogelschatz. Plasma Chem. Plasma Proc., 23 (2003) 1—46

26. M. A. Malik, K. H. Schoenbach, R. Heller. Chem. Eng. J., 15 (2014) 222—229

27. I. Timoshkin, M. Maclean, M. Wilson, M. Given, S. MacGregor, T. Wang, J. Anderson. IEEE Transact. Plasma Sci., 10 (2012) 2322—2333

28. L. Han, S. Patil, D. Boehm, V. Milosavljevic, P. J. Cullen, P. Bourke. Appl. Environ. Microbiol., 2 (2016) 450—458