

Оптико-эмиссионный анализ химического осаждения из паровой фазы плазмы метана атмосферного давления
Аннотация
Исследованы характерные особенности свечения при низкотемпературном высокочастотном плазмохимическом осаждении из газовой фазы в среде CH4/Ar и его корреляция с характеристиками пленки, полученной плазменным напылением. Данные диагностики оптической эмиссионной спектроскопии и результаты осаждения показали, что во время тлеющего разряда CH4/Ar частицы CH и C2 возникают в результате диссоциации молекул CH4 под действием электронов низкой энергии, которые образуют частицы осаждения. Однако сильные линии излучения Ar связаны с неосажденными частицами, такими как атом аргона. Результаты оптико-эмиссионного анализа показали, что возможный вклад в рост пленки, осажденной плазмой атмосферного давления, происходит в первую очередь за счет комбинации диссоциации электронным ударом и ионизации.
Об авторах
Y.-C. ChangТайвань
Чунг-Ли, 32003
P.-Y. Wu
Тайвань
Чунг-Ли, 32003
J.-C. Jhuang
Тайвань
Чунг-Ли, 32003
C. Huang
Тайвань
Чунг-Ли, 32003
Рецензия
Для цитирования:
Chang Y., Wu P., Jhuang J., Huang C. Оптико-эмиссионный анализ химического осаждения из паровой фазы плазмы метана атмосферного давления. Журнал прикладной спектроскопии. 2021;88(5):819(1)-819(9).
For citation:
Chang Y., Wu P., Jhuang J., Huang C. Optical Emission Analysis of Atmospheric Pressure Methane Plasma Chemical Vapor Deposition. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2021;88(5):819(1)-819(9).