Оптические характеристики собственных дефектов 4H-SiC, облученного 10-МэВ электронами с последующим отжигом
Аннотация
Для исследования дефектов кристаллов 4H-SiC использована низкотемпературная фотолюминесценция после облучения высокоэнергетическими электронами. Изучены характеристики отжига и зависимость температуры детектирования от доз облучения. Результаты показывают, что в облученном электронами кристалле 4H-SiC доминирует эмиссия, связанная с дефектами углеродная антиструктура—вакансия (VCCSi)+. С повышением температуры детектирования излучение уменьшается и сдвигается в красную область, а полная ширина на полувысоте увеличивается, что связано с повышением концентрации носителей в результате термической активации при высокой температуре. Интенсивность излучения максимальна при Дозе облучения 7.9 × 1018 эл/см2, затем она уменьшается. Это свидетельствует о повреждении решетки, вызванном длительным высокоэнергетическим облучением, что уменьшает интенсивность радиационного дефекта в спектре.
Об авторах
Y. ZhangКитай
Тайюань, Шаньси 030024.
K. Wang
Китай
Тайюань, Шаньси 030024.
H. Wang
Китай
Тайюань, Шаньси 030024.
Y. Tian
Китай
Тайюань, Шаньси 030024.
Y. Wang
Китай
Тайюань, Шаньси 030024.
J. Li
Китай
Тайюань, Шаньси 030024.
Y. Chai
Китай
Тайюань, Шаньси 030024.
Список литературы
1. Y. Zhou, H. Hyuga, D. Kusano, Y. Yoshizawa, T. Ohji, K. Hirao, J. Asian Ceram. Soc., 3, 221-229 (2015).
2. Z. Huang, X. Zhang, T. Wang, G. Liu, H. Shao, Y. Wan, G. Qiao, Surf. Coat. Technol., 335, 198-204 (2018).
3. A. Gali, J. Mater. Res., 27, 897-909 (2012).
4. W. F. Koehl, B. B. Buckley, F. J. Heremans, G. Calusine, D. D. Awschalow, Nature, 479, 84-87 (2011).
5. A. Ellison, B. Magnusson, N. T. Son, L. Storasta, E. Janzen,Mater. Sci. Forum, 433-436, 33-38 (2003).
6. St. G. Muller, M. F. Brady, W. H. Brixius, R. C. Glass, H. Mc D. Hobgood, J. R. Jenny, R. T. Leonard, D. P. Malta, A. R. Powell, V. F. Tsvetkov, S. T. Allen, J. W. Palmour, C. H. Carter, Jr., Mater. Sci. Forum, 433-436, 39-44 (2003).
7. J. W. Steeds, F. Carosella, A. G. Evans, M. M. Ismail, L. R. Danks, W. Voegeli, Mater. Sci. Forum, 353-356, 381-384 (2001).
8. N. T. Son, P. N. Hai, E. Janzen, Phys. Rev. B, 63, 201201(R) (2011).
9. A. Mattausch, M. Bockstedte, O. Pankratov, J. W. Steeds, S. Furkert, J. M. Hayes, W. Sullivan, N. G. Wright, Phys. Rev. B, 73, 161201(R) (2006)
10. S. Nakashima, H. Harima, Phys. Status Solidi (a), 162, 39-64 (1997).
11. J. Steeds, K. Wang, Z. Li, Diamond Relat. Mater., 23, 154-156 (2012).
12. H. Wang, F. D. Medina, D. D. Liu, Y. Zhous, J. Phys.: Condens. Matter, 6, 5373-5386 (1994).
13. J. Garcia Sole, L. E. Bausa, D. Jaque, An Introduction to the Optical Spectroscopy of Inorganic Solids, Wiley, New York (2005).
14. M. Marco, M. Marianna, C. R. Pier, A. Alberto, J. Phys.: Condens. Matter, 24 135401 (2012).
15. R. C. Powell, Physics of Solid State Laser Materials, Springer Verlag, New York (1998).
16. J. W. Steeds, W. Sullivan, S. A. Furkert, G. A. Evans, Phys. Rev. B, 77, 195203 (2008).
17. J. W. Steeds, Phys. Rev. B, 80, 245202 (2009).
18. S. Castelletto, B. C. Johnson, V. Ivady, N. Stavrias, T. Umeda, A. Gali, T. Ohshima, Nature Mater., 13, 151-156 (2014).
19. H. Iuni, H. Mori, H. Fujita, Philos. Mag. B, 61, 107-124 (1990).
20. M. V. B. Pinheiro, E. Rauls, U. Gerstman, S. Greulich-Weber, H. Overhof, J.-M. Spacth, Phys. Rev. B, 70, 245204 (2004).
Рецензия
Для цитирования:
Zhang Y., Wang K., Wang H., Tian Y., Wang Y., Li J., Chai Y. Оптические характеристики собственных дефектов 4H-SiC, облученного 10-МэВ электронами с последующим отжигом. Журнал прикладной спектроскопии. 2020;87(6):891-896.
For citation:
Zhang Y., Wang K., Wang H., Tian Y., Wang Y., Li J., Chai Y. Optical characterization of native defects in 4H-SiC irradiated by 10 MeV electrons with subsequent annealing. Zhurnal Prikladnoii Spektroskopii. 2020;87(6):891-896.